Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

₺3.699,00
+ ₺1.281,49 Kargo
  • product image

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • Marka: Unbranded
Satıcı:

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

  • Marka: Unbranded

₺3.699,00

Stokta kalan sadece 1
+ ₺1.281,49 Kargo

14 Günlük İade Politikası

Satıcı:

₺3.699,00

Stokta kalan sadece 1
+ ₺1.281,49 Kargo

14 Günlük İade Politikası

Ödeme yöntemleri:

Tanım

Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes

This book describes the application of machine learning modelling approaches in atomic layer deposition and presents detailed information on modelling optimization and prediction of the behaviour and characteristics of ALD for improved process quality control.
  • Marka: Unbranded
  • Kategoriye Göre: Bilim, Tıp & Doğa
  • Biçim: Paperback
  • Yayın Tarihi: 2025-05-07
  • Dil: English
  • Yazar: Machine Learning Based Modelling in Atomic Layer Deposition Processes
  • Sayfa Sayısı: 354
  • Yayıncı / Etiket: Taylor & Francis Ltd
  • Fruugo Kimliği: 484517065-1005482003
  • ISBN: 9781032386737

Teslimat

6 gün içinde kargoya verilir

  • STANDARD: ₺1.281,49 - Arasında teslimat Per 23 Temmuz 2026–Çar 12 Ağustos 2026

Kargo çıkış noktası Birleşik Krallık.

İadeler

Sipariş ettiğiniz ürünlerin size bütün ve belirttiğiniz özelliklere göre teslim edilmesi için elimizden gelenin en iyisini yapıyoruz. Fakat, bütün gelmeyen veya siparişiniz ettiğinizden farklı çıkan bir ürünün elinize ulaşması ya da siparişinizden başka bir sebepten ötürü memnun kalmamanız durumunda, siparişi veya siparişe dahil ürünlerden herhangi birini iade edebilir ve ürünler için tam para iadesi alabilirsiniz.

Tam iade politikasını görüntüle